Si基板(SRO/Pt/ZrO₂/Si)

Si(ケイ素)は半導体デバイスの製造にあたり一般的に使用される材料です。現在、4インチから8インチまでのSiウェハーに対応しています。
JEITA規格、SEMI規格のいずれにも対応可能です。
製品用途
Si基板
Si(ケイ素)は半導体デバイスの製造にあたり一般的に使用される材料です。現在、4インチから8インチまでのSiウェハーに対応しています。
JEITA規格、SEMI規格のいずれにも対応可能です。
Si基板
SOI(Silicon on Insulator)基板は、Siの酸化膜層(BOX層)上にSiの単結晶層が形成されており、パワーデバイスやMEMSなどで用いられております。現在、4インチから8インチまでのSiウェハーに対応しています。JEITA規格、SEMI規格のいずれにも対応可能です。
SOI基板には様々な仕様がありますので、お客様からご支給いただくかご要望に応じて弊社でご準備しております。
SOI基板
現在のところ、基本的にはSi基板、SOI基板のみ成膜対応しておりますが、これら以外の材質の基板での成膜をご検討の場合にはご相談ください。
アドバンストマテリアルテクノロジーズ株式会社